鑫（xīn）南光公司小編為大家介（jiè）紹關於成都光刻（kè）機的產（chǎn）品特點：

一（yī）、主要用途

本設備是我公司針（zhēn）對各大專院校及科研（yán）單位對光刻機的使用特性（xìng）專門研發的一種精密光刻機，它 主要用於中（zhōng）小規模集成電路、半導體元器件、光電子器（qì）件、聲（shēng）表麵波器件的研製和生產。

二、主要構成

主要由高精度對準工作台、雙目（mù）分離視場CCD顯微顯示係統、曝光頭、氣動係統、真空管路係統、直聯式真空泵、防（fáng）震工作台和附件箱等組成。

三、主要功能特點（diǎn） :

1.適用範（fàn）圍（wéi）廣:

適用於Φ100mm以下，厚度（dù）5mm以（yǐ）下（xià）的各種（zhǒng）基片(包括非圓形基片（piàn）)的對準曝（pù）光。

2.結構穩定

具有半球式找平（píng）機構和可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；具  有（yǒu）真空掩膜（mó）版架、真空（kōng）片吸盤。

3.操作簡便

采用（yòng）翻板方式（shì）取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實現真空 吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖（suǒ）等功（gōng）能，操（cāo）作、調試、維護、修理 都非常簡便。

4.可靠性高

采用進口電磁閥、按（àn）鈕、定時器；采用獨特的氣動係統、真（zhēn）空管路係統（tǒng）和精密的機械零件（jiàn），使本機具有非常高的（de）可靠性。

5.特設“碎（suì）片”處理功能

解決非圓形基片、碎片和底麵不平的基片造成的版片分離不開所引（yǐn）起的版片無法對（duì）準的問題。

四、主要（yào）技術指標（biāo）:

1、曝光頭:采用蠅眼曝光頭

2、曝光（guāng）類型：單麵

3、曝光麵積：φ100mm

4、光束不平行度：≤6°

5、曝光（guāng）不均勻性：≤±3%

6、掩模版尺寸：2.5″×2.5″、4″×4″、 5″×5″

7、基片尺寸（cùn）：φ2″、φ3″、φ4″

8、基片厚度：≤5 mm

9、曝（pù）光強度：≥5mw/cm²

10、曝光分辨率：≤1.0μm

11、曝光（guāng）模式：套刻曝光

12、對準精度：1μm

13、掃描範圍：X：±40mm   Y：±35mm

14、對準範圍：承片台相對於版運動為：

①x、y±5mm運（yùn）動，放大比為400:1；

②Q轉動為±5°；③Z軸運動≤4mm；

15、密著曝光方式：密著曝光可（kě）實現硬接觸（chù）、軟接觸和微力接觸曝光；

16、顯微係統（tǒng）：雙視場CCD係統；連（lián）續可調（物鏡0.7～4.5倍連續可調）；

計算機圖（tú）像處理係統；

17、曝光燈功率：直流350W

18、曝光定時：0～999.9秒可調

19、電源：AC220V 50Hz 1kW

20、空氣：P≥0.1MPa，耗氣量（liàng）0.2m³小時；

21、真（zhēn）空度：-0.07MPa～-0.09MPa

22、外形尺（chǐ）寸：918×680×1450(L×W×H)mm

23、重量：～160kg

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