設備概述:

 本設備是（shì）我公司根據市場需求（qiú）研發的產品，其突出的特點是曝光麵積大（dà），通常情（qíng）況下為Φ4"，對被（bèi）光（guāng）刻基片的外形、厚度要求較低，可（kě）對多種（zhǒng）材料的基片進行光刻，它特別適用一次光刻的產品，可製作聲表麵器件、可控（kòng）矽、小液（yè）晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼（mǎ）盤等，按用戶（hù）要求可提（tí）供圓形承片台或方形承片台,承片（piàn）台（tái）都能實現“真空密著”曝（pù）光，加之光均勻（yún）性好（Φ100mm範圍內≤±3%），所以大大提高光刻質量。

主要構成
主要由防震工作（zuò）台、高均（jun1）勻性4"蠅眼曝光頭、氣（qì）動係統、電氣控製係統、真空管路（lù）係統、直聯式真空（kōng）泵（bèng）及附件箱等組成。

主要功能特點（diǎn）

1.適（shì）用於5mm以下的各種基片)的一次曝光。

2.本設備配置有可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；具

3. 操（cāo）作簡便

4. 設備運行穩定、可靠

5. 特設功能

主要技術參數：

1、曝光麵積：Φ4"，配置（zhì）4"蠅眼專用曝光（guāng）頭

2、實現“真空密（mì）著”曝光，（通（tōng）過調整真空度能實現硬接觸、軟接觸或微力接觸曝光）。但基片厚度≤2mm。

3、曝光*小（xiǎo）分辨率為2μm。

4、可以為用戶製作具有預定位機構的專用承片台，片對版的預定位精（jīng）度≤±0.1mm。

5、曝光頭（tóu）用燈為<span style="font-size:16px;line-height:150%;font-family:;" "="">GCQ350Z型（xíng）高壓水銀直流汞，光強≤10mw/cm²，光（guāng）的不均勻性在Φ100mm範圍內≤±3%，可以通過調節曝光頭光柵（shān）來（lái）改變光（guāng）強。