G-31D6型高精密光刻機

產品介紹（shào）：

設備（bèi）概述

本設備廣泛用於各大（dà）、中、小型企業、大專院校、科研單位，它主要用於中小規模集成電路、半（bàn）導（dǎo）體元器件、光電（diàn）子器件、聲表（biǎo）麵波器件、薄膜電路、電力（lì）電子器件的研製和生產。

主要構成 本設備為板板對準雙麵曝光<span style="font-family:;" "="">

主要由（yóu）雙目視場CCD顯微顯示係統、二台6"LED專用曝（pù）光頭、PLC電（diàn）控係統、高精度對準工作台、Z軸升降機構、真空管路係統、氣路係統（tǒng）、直聯式真空泵、二級防震工作台等組（zǔ）成。

<span style="font-family:;" "="">  

曝光頭部件圖

CCD顯微係統|X、Y、Q對（duì）準工作台（tái）

主（zhǔ）要功能（néng）特點

1.適用範圍廣

適用於150×150mm以下、厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝（pù）光（guāng），雙（shuāng）麵（miàn）可同時曝光，亦（yì）可用於單麵曝（pù）光。

2.結構穩定

Z軸采用滾珠直（zhí）進式導軌和可實（shí）現硬（yìng）接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機（jī）構，真空吸版，防粘片機構。

3.操作簡便

X\Y移動、Q轉（zhuǎn）、Z軸升降（jiàng）采用手動（dòng）方式；吸版、反（fǎn）吹采用按鈕（niǔ）方式，操作、調試、維（wéi）護、修理都非常簡便。

4. 可靠性高

采用進口（日本產）電磁閥、按鈕（niǔ）、定時器；采用獨（dú）特的氣（qì）動係統、真空管路係統和精密的機械（xiè）零件，使本機運行具有非常高的可靠性。

5. 特（tè）設功能（néng）

除（chú）標準承片台外，還可以為用（yòng）戶定製專用承片台，來解決非圓形基片、碎片和底麵不平的基片造成的版片（piàn）分離不開（kāi）所引起的版片無法對準的問題

主要（yào）技術指標

1、曝光類型：版版對準雙麵曝光

2、曝光麵（miàn）積：150×150mm；

3、曝光照度不均（jun1）勻性：≤±3.5%；

4、曝光強度：0～30mw/cm²可調；

5、照明不均勻性改為≤3%；

6、紫外光中心波長：365nm；

7、紫外光（guāng）源壽命：≥2萬小時；

8、工作麵溫度：≤30℃

9、采用電子快（kuài）門；

10、曝光分（fèn）辨率：1μm(曝光深度（dù）為線寬的10倍左右)

11、曝（pù）光模式：雙麵同時曝光

12、對準範圍：X:±5mm Y:±5mm

13、套刻精度：1μm

14、旋轉範圍：Q向旋轉調節≤±5°

15、顯微係（xì）統：雙視場（chǎng）CCD係統，物鏡1.6X～10X，計算（suàn）機（jī）圖像處理係統，19″液晶監視器；

16、掩模版尺寸：能（néng）真空吸附6"方形掩板，對版的厚度無特殊要求（1～3mm皆可）。

17、基片尺寸：適用於Φ5"mm圓形基片（或（huò）3"×3"mm方形基片），基片厚度≤5mm。