G-43B4型高精密單麵光（guāng）刻機產品介紹：

設備概述:

本設（shè）備是我（wǒ）公司根據市（shì）場需求研發的產品，通常情況下可曝（pù）光基片尺寸為：Φ4"，對被光刻基片的外（wài）形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特別適用做一次（cì）光刻的產（chǎn）品，可製作聲表麵器件、可控矽、小液晶顯示器、傳感（gǎn）器、二極管、園光柵（shān）、編碼盤等，此設備光的均勻性非常好（在Φ100範圍內≤±4%），所以大（dà）大提高了設備的光刻質量。

主要（yào）構成
主要由防震（zhèn）工作台、高均勻性曝光頭、氣動係統、電氣控製係統、真空管路係統（tǒng）、直聯式真空泵及附件箱等組（zǔ）成。

曝光頭及部件（jiàn）圖（tú）

主要功能特點

1.適用範圍廣
適用於Φ100mm以下，厚（hòu）度5mm以下的各種基片（piàn）(包括非圓形（xíng）基片（piàn）)的一次曝光。
2.結構（gòu）穩定
本設備配置有可實現真空硬（yìng）接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機（jī）構；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3.操作簡便
本設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。
4.設備運行穩定、可靠（kào）
采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特（tè）的氣動係統、真空管路係統和精密的機械零件，使本（běn）機具有非常高（gāo）的可靠性（xìng）。
5.特設功能
除標準承片台外，還可以為用戶定製專用承片台，來（lái）解（jiě）決非（fēi）圓形基片（piàn）、碎片和底麵不平的基片造成的版片分離不開所（suǒ）引起的版片（piàn）無法對準的（de）問題

主要技術指標

1．操作方式：手動；

2．曝光（guāng）模式（shì）：接觸式曝光；

3．曝（pù）光麵積：Φ4"；

4．紫外光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5.曝光分辨率：3um；

6．曝光（guāng）頭汞燈為GCQ350W型**壓直流球形（xíng）汞燈。