G-43B9型高精密光刻機

產品（pǐn）介紹：

設備（bèi）概述:

本設備是我公司根據市場需（xū）求研發的產品（pǐn），其*大特點（diǎn）是曝光（guāng）麵積極大，通（tōng）常情況下為：Φ9"，對（duì）被光刻（kè）基片的外（wài）形、厚度要求較低，可對多種材料的基（jī）片進行光（guāng）刻，它特別適用一次光刻的（de）產品，可製作聲（shēng）表（biǎo）麵器件、可控矽、小液晶顯示器、傳感器（qì）、二極管、園光柵、編（biān）碼盤等，按用戶要（yào）求可提供圓形（xíng）承片台或方形承片台（tái），不管哪一種承片台都能實現“真空密著”曝光，加之光均勻性好（Φ200mm範圍內≤±6%），所以大（dà）大提高光刻質（zhì）量，我公司還可根據用戶要求，在（zài）G-43B9型光刻（kè）機外加裝（zhuāng）對準設置，以進行版對片的精密對準曝光（guāng）。

主要構成（chéng）

1.適用範圍廣
適用於Φ200mm以下、厚度：5mm以下的各（gè）種基片(包括非圓形基片（piàn）)的一次光刻。
2.結（jié）構穩定
本（běn）設備配（pèi）置有可實現真（zhēn）空硬接觸、軟接觸、微力接觸的（de）真空密（mì）著機構；配置有真空掩膜版架、真空（kōng）片吸盤。
3.操作簡便
本設備操作簡單（dān），調（diào）試、維護、修理等都（dōu）非常簡便。
4.設備運（yùn）行穩（wěn）定、可靠
采用進口電磁（cí）閥、按鈕（niǔ）、定時器；采用獨特的氣動（dòng）係統、真空管路係統和精密的機械零（líng）件，使本機（jī）具有非常高的可靠性。
5.特設功能
除標準承片台（tái）外（wài），還可以為用戶定製專用（yòng）承片台，來（lái）解決非圓形基片、碎片和底麵不平（píng）的（de）基片造成的版片分離不開所（suǒ）引起（qǐ）的版片無法對準的問題

主要技術（shù）參數：

1、曝光（guāng）麵（miàn）積Φ9"。

2、曝光*小分辨率為3μm。

3、可以為用（yòng）戶製作具有預定位機構的專用承片台（tái），片對版的預定位精度≤±0.1mm。

4、曝光頭用燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈，光強≤3.5mw/cm²，光的不均勻性在：Φ200mm範圍內≤±6%。

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