小編（biān）在這裏給大家（jiā）分享（xiǎng）的主要是四川光刻（kè）機的主要性能指標有哪些，希望看完之後大家對於光刻（kè）機的主要性（xìng）能指標有一定的了（le）解。

光刻機的主要性能指標：

1、支持基片的尺寸範（fàn）圍，分辨率、對（duì）準精（jīng）度（dù）、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。

2、分辨率是對光刻工藝加工（gōng）可以達到（dào）的*細線條精度的一種描述方式。

3、光（guāng）刻的分辨率受受光源衍射的限製,所以與（yǔ）光源、光刻係（xì）統、光刻膠和工藝等各方麵的限製（zhì）。

4、對準精度是在多層曝光（guāng）時層間圖案的（de）定位精度。

5、曝光方式分（fèn）為接觸接近式、投影式和直（zhí）寫式。

6、曝光光源（yuán）波（bō）長為紫外、深紫外（wài）和極紫外區域，光源有（yǒu）汞燈，準分子激光器（qì）等。

相信大家看完（wán）文（wén）章之後對於四川光刻機的主要性能指標一定的了解，能夠對光刻機（jī）有更深入的認識。