光刻機是芯片製造必不可少的設備，有了光刻機才能順利生產芯片（piàn）。目前**上..的光刻機（jī）為EUV光刻機。為什麽說光刻機很難製作，你真的知道其中原因嗎？

光刻機是芯片製造中（zhōng）必不可少的精 密（mì）設備。其（qí）難度甚至超過航空發動機。

首先是在技術上的難度（dù）：

光（guāng）刻機可（kě）以說每個部件都是科技含量（liàng）很高，步步困難重重。

瓶頸主要集中在透（tòu）鏡、掩膜版、光源、能量控製器等。

下麵（miàn）簡單單介紹光刻機的結構和工作原理：

光刻機的光源（yuán）有：激光，紫外光、深紫外光、極紫外光。現在**技（jì）術（shù）是極紫外光。

在（zài）製造芯片時，首先在（zài）晶圓（矽晶片）表麵塗光感膠，再（zài）用光線透過掩（yǎn）模版（相（xiàng）當於芯片電路圖紙的底片）照射矽片表（biǎo）麵，被光線照射到（dào）的光感膠會發生反應。此後用特定溶（róng）劑（jì）洗去被（bèi）照（zhào）射（shè）或者未被照射（shè）的膠，電路（lù）圖就印到矽片上。

此過（guò）程相當（dāng）於木（mù）匠施工用墨鬥放樣（yàng）、劃線。

矽片（piàn）上（shàng）有了電路圖的圖樣後，就輪到刻蝕機登場，刻蝕機相當於木匠的鋸子、斧頭（tóu）、鑿子、刨子。刻蝕機按圖施（shī）工（gōng），在矽片表麵雕刻出晶體管和電（diàn）路。

芯片主要是精度（dù）要求高。納米（mǐ）精度是什麽概念呢？是91视频网站肉眼無法分（fèn）辨的，大概相當（dāng）於一根頭發絲的5000分之一納米細小。

光刻機幾個關鍵部件：

光源：必 須穩定、高質量地提供指定波長的光束（shù）。

能量（liàng）控製器：就是電源。電源要穩定、功率（lǜ）要足夠大，否則光源發（fā）生（shēng）器沒辦法穩定工（gōng）作。大、穩、同時要考慮經濟性（xìng）能。耗電太高，客戶就用不起。

掩膜版：通俗點理解，相當於過去用膠片（piàn）衝洗照片時的底片。底片如果精度不夠，是洗不（bú）出來高精度照片的。光刻機施（shī）工前，要根據設計好的芯片電路圖製作掩膜板（bǎn）。掩膜（mó）板材質是石英玻璃，玻璃上（shàng）有金屬鉻（gè）和感光膠。通（tōng）過激（jī）光在金（jīn）屬鉻上繪製電路圖。精度要求非常高。

透鏡：用透鏡的光學原理，將（jiāng）掩膜版上（shàng）的電路圖按比例縮小，再用（yòng）光源映射的（de）矽片上。光在多次投射中會產生光學誤差。要控（kòng）製這個誤差。精度要求很高。

就是測量（liàng）台移動的控製器，也是納米級（jí）精度，要（yào）求超 高（gāo）。

荷蘭的ASML公司壟斷了高 端光（guāng）刻機。但其透鏡來自德國的蔡（cài）司，自己也做不了。光源是美國的Cymer。所以（yǐ）說它也不是（shì）完全技術獨立。主要是技（jì）術難度太大。

其次是資金上的困難：

光刻機由於技術難度（dù）大，研發資（zī）金投入（rù）巨大，以至於佳能和索尼都虧損嚴重，已經停止研發，退出未來技術的競（jìng）爭。

荷蘭的ASML，為（wéi）了（le）籌集（jí）資金，同時也是進行上下遊利益捆綁，研發風險共擔，邀（yāo）請英特爾、三星和台積電出資，做自（zì）己的大股東（dōng）。ASML實際上是美、日、韓、德等共同投資的項目（mù），資金充裕。

中（zhōng）國也在此（cǐ）方麵有長期投入，但投入水平和不能和多國合作同日（rì）而語。中國（guó）有相對（duì）寬裕的研發資金，也才是近7、8年的事情，而光刻機的研發，10年（nián）都顯然不夠。

91视频网站（men）能不能也參與到荷蘭的ASML的研（yán）發中呢？是不行的。因為發達**之間，由美國牽頭，搞了個《瓦森納（nà）協定》，專門對中國進行技術禁運，技（jì）術封鎖的。91视频网站也買不到荷蘭的ASML新的光刻機，更別說參股和（hé）技術合作了。

目前我（wǒ）們還在追趕，量產的是上海（hǎi）微電子的90納米的，離ASML的10 納米（mǐ）的差距很大。下一步，隨（suí）著長春光機所的極（jí）紫外光技（jì）術的突破，有望衝擊22-32納（nà）米的技術。那（nà）時（shí）荷蘭可能進入7納米時代。雖（suī）然和7納（nà）米還（hái）有很大差距，但如果能實現，進步也是驚人的。

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