G-30D4型高精（jīng）密單麵光刻機

設備概述:

本設備為我公司專（zhuān）門針對各大、中、小型企（qǐ）業的（de）使用特（tè）性而研發的一種高（gāo）精密雙（shuāng）麵光刻機，它主要用於中小規模集成（chéng）電路、半（bàn）導（dǎo）體元器件、聲表麵（miàn）波器件的研製和生產,它具有（yǒu）生產效（xiào）率高、結構簡單、操作維護方便等優勢，本機不僅適合4英寸以下各型基（jī）片的曝光，也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦（yīn）等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。 主要由防震工作台、LED專用曝光頭、氣動係統、電氣控製係統、真空管路係統、直聯式真空泵及（jí）附件箱等組成（chéng）。

曝光頭及部件圖

主要功能特點

Φ100mm以下，厚度(包括非圓形（xíng）基片

2. 結構穩定

有真空掩膜版架、真空片吸盤。

本設備操作簡單，調試、維護、修理等都（dōu）非（fēi）常簡便。  

采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用（yòng）獨特的氣動係統、真（zhēn）空管路係統和精密的機械