G-31B4型高精密光刻機

產品介紹（shào）：

設備概述

本設備廣泛用於各大、中、小型企業、大專院校（xiào）、科研單位，它主（zhǔ）要用於中小規模集成電路、半導體元器件（jiàn）、光電（diàn）子（zǐ）器件、聲表麵波器件、薄（báo）膜電路、電力電子器件的研（yán）製和生產（chǎn）。

主要構成 本設備為板板對準雙麵（miàn）曝光CCD顯微顯示係統、二台高均勻性曝光頭、Z軸升降機構、真空管路係統、氣路係統、直聯式真空泵、二級防震工作台等（děng）組（zǔ）成。

1.適用範圍廣
適用於φ100mm以下、厚度5mm以下的（de）各種基片（piàn）(包括非圓形基片（piàn）)的對準曝光，雙（shuāng）麵可同時曝光，亦可用於單麵曝光。

2.結構穩定
Z軸采用滾珠直進式導（dǎo）軌和可實現（xiàn）硬（yìng）接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構（gòu），真空（kōng）吸版，防粘（zhān）片機構。

3.操作（zuò）簡便
X\Y移（yí）動、Q轉、Z軸升降采用（yòng）手動方式；
吸版、反吹（chuī）采用按鈕方式，操作、調試、維（wéi）護（hù）、修理都非常簡便。 4. 可（kě）靠（kào）性高（gāo）

精密的機械零件，使本機運行具有非常（cháng）高的可靠（kào）性。
    除標準承片台外，還可以為用戶定製專用承片台，來解決非圓（yuán）形基片、碎片和底麵（miàn）

曝光類型：版
曝（pù）光麵積：≤±3%
曝光強度：
曝光分辨率：2台GCQ350W型**壓直流球形汞燈高均勻性曝光頭

對準範圍：2μm

Q向旋轉調節（jiē）≤

CCD係統（tǒng），物鏡10X，計算（suàn）機圖像處理係統（tǒng），
掩模（mó）版尺寸：能真空吸附4"方（fāng）形掩板，對版的厚度無（wú）特殊要求（qiú）（1～3mm皆可）。

<span style="line-height:150%;font-family:;" "=""> 基片尺寸：適用於Φ3"mm圓形基片（或3"×3"mm方形基（jī）片），基片厚度≤5mm。