G-33D4型高精密光刻機

產品介紹：

設備概述

本（běn）設備廣（guǎng）泛用於各大、中、小型企業、大專（zhuān）院校、科研單位，主要用於集成電路、半導（dǎo）體元器（qì）件、光電子器件、光學器件研製和生產（chǎn）,由於（yú）本機（jī）找（zhǎo）平機構**，找平力小，使本機不僅適合矽片（piàn）、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也適合易碎片（piàn）如砷化鉀、磷化銦等（děng）基片（piàn）的曝（pù）光, 這是一（yī）台雙麵（miàn）對準單麵曝光的光刻機（jī）,它不僅能完成普通光刻機的任何工作,同時還是一台檢查雙麵對準精（jīng）度的檢查儀。

主（zhǔ）要構成LED專用曝光頭、

  主（zhǔ）要功能（néng）特點

（1）4″LED紫外專用曝光頭

（2）曝光麵積：110mm×110mm；

（3）曝光強度：0～30mw/cm²可調；

（4）紫外光束角：≤3°；

（5）照明不均勻性： ≤3%；

（6）紫外光源壽命（mìng）：≥2萬小時（shí）；

（7）采用（yòng）電子快門；

（8）套刻（kè）精度：1μm

（9）觀察係統為（wéi）上下各兩個無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像（xiàng）頭通過視屏（píng）線連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b、CCD攝像機（jī）靶麵對角（jiǎo）線尺寸為：1/3″；

c、 采（cǎi）用19″液晶監視器，其數字（zì）放（fàng）大倍率（lǜ）為19÷1/3=57倍；

d、觀察係（xì）統（tǒng）放大倍數（shù）為：1.6×57=91倍（*小倍數）

10×57=570倍（*大倍數）；