G-33B4型（xíng）高精密（mì）光刻機

產品介紹：

設備概述

本設備廣（guǎng）泛用於（yú）各大、中、小型企業、大專院校、科研單位，主要用於集成電（diàn）路（lù）、半導（dǎo）體（tǐ）元器件、光電子器件、光學器件研製和（hé）生產,由（yóu）於（yú）本機（jī）找平機（jī）構**，找平力小，使本機不僅適（shì）合矽片、玻璃片、陶瓷片的曝光（guāng），而且也適合易碎片如砷化鉀（jiǎ）、磷（lín）化銦等基（jī）片的（de）曝光, 這是一台雙麵對準單麵曝光的（de）光刻機,它不僅能完（wán）成普（pǔ）通光刻機的任何工作,同時還是一台（tái）檢（jiǎn）查雙麵對準精度的檢查儀。

主要構成

曝光頭及部件圖（tú）

CCD顯微係統|X、Y、Q對準工作台

適用於5mm以下的各種基片)的對準曝光。2.套刻精度高、速度快Z軸升降機構和雙簧片微分離機構，使本機片對版在分離接觸時漂移特小，對準精度高，對準速度快，從而提高了版的複用率和產品的成（chéng）品率。

主要技術指標<span style="font-family:;" "="">

（1） 高均勻性高壓直流球形汞（gǒng）燈曝光頭。

a、 采用350W直流球（qiú）形汞燈；

b、 出射光（guāng）斑≤φ117mm；

c、 光強≥5mw；

d、 光的不（bú）均（jun1）勻性≤±3%；

e. 曝光時間采用0～999.9秒（miǎo）（日本OMRON生產）時間繼電器控製。

f. 對準（zhǔn）精度：±0.5μm  

g. 套刻精度：1μm  

（2） 觀察（chá）係統為上下各兩個無級變（biàn）倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算（suàn）機到19″高清液晶顯視屏（píng）上。

a、 單筒顯（xiǎn）微鏡為1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b、 CCD攝像機（jī）靶（bǎ）麵對（duì）角線尺寸為：1/3″；

c、 采用19″液晶（jīng）監視器，其數字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d、 觀察係統放大倍數為：1.6×57=91倍（*小倍數）

10×57=570倍（*大倍數）；

（3）計算機硬軟件係統

a、鼠標單擊“開始對準”，能將監視屏上的圖形記憶下來，並處理成（chéng）透明的，以便對新進（jìn）入的圖形進行對準；

b、鼠標雙擊（jī）左麵或右麵（miàn）圖形，就（jiù）分別全屏顯示左或右麵圖形（xíng）。

（4）非常特殊的板架裝置：

a、該裝置裝入 125×125板架，對版進行真空吸（xī）附；

b、該裝置安裝在機座上，能圍繞A點作翻轉運動，相對於（yú）承片台（tái）而言作上下翻轉運動，以便於上下版和上下片；

c、該裝置來回反複翻轉，回到承（chéng）片台上平麵的位置，重複精度為（wéi）≤±1.5μ；

d、該裝置具有補償基片楔形誤差之功能，版下（xià）平麵與片上平麵之良好接觸，以便提高曝光質量。

（5）承片台調整裝置：

a、 配備（bèi）有Φ100承片台一（yī）個，這種承片台有二個長方孔，下麵二個CCD通過該孔能觀察到版或片的下平麵；

b、 承片台能作X、Y、Z、θ運動，X、Y、Z可（kě）作±5mm運動，θ運動為±5°；

c、 承片台密著環相（xiàng）對於版，能實現“真空密著”：

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸；

真空密著（zhe）力（lì）≤-0.05Mpa～-0.02Mpa為軟接觸；

真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸；